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    苏州帕士卡真空镀膜技术常见类型及优缺点

    发布时间：2022-02-16 12:58 浏览： 次

    真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得所需的涂层，目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域。真空镀膜技术也是PVD涂层的常用制备方法，如真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法（PVD），是基本的涂层制备技术。接下来，苏州帕士卡微纳米科技有限公司小编为大家分享一下真空镀膜技术常见类型及其各自优缺点，希望大家有更深的了解。
     
    一、真空蒸发镀膜技术及其优缺点
    真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀）是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到基片表面，凝结形成固态薄膜的方法。
     
    1、电子束蒸发源蒸镀法
    电子束蒸发镀是将蒸发材料放入水冷铜坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面形成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。
     
    优点：
    （1）电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度。
    （2）由于被蒸发材料是置于水冷坩锅内，因而可避免容器材料的蒸发，以及容器材料与蒸镀材料之间的反应，这对提高镀膜的纯度极为重要。
    （3）热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热效率高热传导和热辐射的损失少。
     
    2、电阻蒸发源蒸镀法
    电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让电流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。
     
    优点：
    利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。
     
    缺点：
    加热所能达到的温度有限，加热器的寿命也较短。